FUJI ACD硅膠填料
液相色譜技術(shù)被廣泛的應(yīng)用于有機(jī)化合物的純化領(lǐng)域。由于正相的溶劑，如正己烷、乙酸乙酯等對化合物的溶解性好，所以正相的硅膠基質(zhì)很受使用者的歡迎。但是，具有酸性或者堿性的化合物通常在裸硅膠上的分離很差。雖然Amino和Diol的填料分離堿性化合物效果良好，但是還沒有合適的介質(zhì)用于分離酸性的化合物。因此，富士公司開發(fā)出在硅膠表面鍵合了SO3H基團(tuán)的填料—ACD Silica，專門適用于酸性化合物的分離。
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